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勻膠顯影機(jī)

更新時(shí)間:2019-03-26點(diǎn)擊次數(shù):881

勻膠顯影機(jī) 型號(hào):SC100-DE
  SC100-DE勻膠顯影機(jī)是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺(tái)面式設(shè)備,它可以實(shí)現(xiàn)價(jià)值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達(dá)到穩(wěn)定性和均勻性。 

  不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業(yè)級(jí)別200瓦伺服電機(jī)系統(tǒng),采用與track設(shè)備相同設(shè)計(jì)和程序,使您的工藝更具有實(shí)際應(yīng)用意義;同類產(chǎn)品中的大達(dá)到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度,確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和高的可重復(fù)性。 
主要性能指標(biāo): 
主機(jī)機(jī)箱采用不銹鋼材料(抗化學(xué)腐蝕易清潔)  
旋涂程序:多可存100組程序,每組100步,每個(gè)步驟可到0.1秒  
轉(zhuǎn)動(dòng)速度:0-10,000rpm(更高速可選)  
旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載)  
馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm  
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm,重復(fù)性< 1rpm  
工藝時(shí)間設(shè)定: 0-3,000 sec/step,時(shí)間設(shè)置精度:0.1sec  
支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶)  
標(biāo)準(zhǔn)配置兩路噴液系統(tǒng)(顯影液和去離子水) 



產(chǎn)品特性優(yōu)點(diǎn): 
主機(jī)在SC100-SE勻膠機(jī)上升級(jí),增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 

全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果  
可實(shí)現(xiàn)多獨(dú)立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進(jìn)行氮?dú)獯蹈?nbsp; 
控制器可實(shí)現(xiàn)程序自動(dòng)控制噴液或進(jìn)行手動(dòng)操作,使用更加方便 

顯影系統(tǒng)可進(jìn)行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進(jìn)行配置  
提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計(jì)  
高可靠性和重復(fù)性,高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選  
可添加去邊膠和背膠清洗功能